| 詳細參數(shù) | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | HarmonicDrive | 型號 | LA-30B-10-F-L, |
| 類型 | 無級減速器 | 載荷狀態(tài) | 中等沖擊載荷 |
| 傳動比級數(shù) | 雙級 | 軸的相對位置 | 臥式減速器 |
| 傳動布置形式 | 擺線式 | 加工定制 | 是 |
| 樣品或現(xiàn)貨 | 現(xiàn)貨 | 齒面硬度 | 硬齒面 |
| 布局形式 | 三環(huán)式 | 用途 | 減速機 |
| 輸入轉(zhuǎn)速 | 3000rpm | 額定功率 | 360kw |
| 輸出轉(zhuǎn)速范圍 | 47.6rpm | 許用扭矩 | 691N.m |
| 使用范圍 | 化工 | 減速比 | 99 |
| 產(chǎn)地 | 日本 | ||
日本哈默納科精密磨料諧波LA-30B-10-F-L
CMP的主要工藝參數(shù)有：拋光時間、磨頭向下壓力、轉(zhuǎn)盤速度、哈默納科精密磨料諧波LA-30B-10-F-L 磨頭速度、磨料化學(xué)成分、磨料流速、拋光墊修整、硅片/磨料溫度、硅片背壓。
CMP工作過程的一個重要工藝步驟是終點檢測哈默納科精密磨料諧波LA-30B-10-F-L ，通常使用兩種方法，一是電機電流終點檢測，在拋光時硅片上不同材料的摩擦特性不一致，那么磨頭電機感受到的阻力會有不同變化，電機電流也會相應(yīng)發(fā)生變化。通過檢測電機電流變化判斷拋光過程是否進入不同材料層，從而判斷是否到達拋光終點。二是光學(xué)終點檢測，哈默納科精密磨料諧波LA-30B-10-F-L 該技術(shù)是基于光的反射系數(shù)，在反射光譜學(xué)中，光從膜層上反射的不同角度與膜層材料和厚度有關(guān)。
